通线活动现场。
今天，位于宁波前湾新区的宁波冠石半导体光掩模版制造项目通线量产。
光掩模版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形转移工具或母版，其功能类似于相机的“底片”。作为半导体产业链上游重要的原材料之一，光掩模版是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。目前，我国高精度半导体光掩模版产品主要依赖进口，国产化率极低。
宁波冠石半导体是一家专业从事半导体光掩模版制造的企业。从2023年5月16日签约，到如今项目通线投产，不到两年，宁波冠石半导体已完成固定资产投资超10亿元，亩均有效投资强度超1500万元，刷新数字经济产业的前湾速度。
目前，宁波冠石半导体已实现55nm（纳米）光掩模版产品交付及40nm产线通线，企业产品将广泛应用于人工智能、高性能计算、新能源汽车、消费电子等集成电路制造领域。
宁波冠石半导体的投产，是前湾补齐半导体产业链的重要一环。
近年来，前湾新区将数字经济作为战略产业加以培育，目前已引进数字经济产业项目超100个，总投资超500亿元，已经形成涵盖集成电路设计、晶圆制造、封装测试、半导体设备及材料、关键电子元器件、半导体应用等全产业链。
记者 沈孙晖 编辑 刘挺
